Rusia asigna 2.000 millones de rublos a proyectos de sustitución de equipos de fabricación de chips

El Ministerio de Industria y Comercio de Rusia ha lanzado dos grandes proyectos destinados a la sustitución de importaciones de equipos de epitaxia. Esta tecnología está diseñada para el crecimiento de capas basadas en silicio, silicio-germanio, así como compuestos de indio, aluminio y galio. Según CNews, los nuevos desarrollos están destinados a reemplazar los equipos de la estadounidense Veeco, la francesa Riber y la neerlandesa ASM, cuyos suministros a Rusia han sido bloqueados. Ixbt.com informa al respecto. informa .

Se han asignado 463,7 millones de rublos al proyecto 'Epitaxia-SiGe'. Este contempla la creación de un dispositivo para el crecimiento de capas de silicio-germanio en obleas de silicio de 200 mm de diámetro mediante epitaxia en fase gaseosa. Este sistema será un análogo del ASM Epsilon 2000 de los Países Bajos. Según las especificaciones técnicas, el contratista debe desarrollar un reactor, un cargador robótico y un módulo de limpieza de superficie de obleas. Los trabajos deben completarse para junio de 2029.

El segundo proyecto, denominado 'Citadel', recibió 1.500 millones de rublos. Este proyecto prevé el desarrollo de un sistema de epitaxia de haz molecular para producir heteroestructuras basadas en compuestos de indio, aluminio, galio y arseniuro. Se espera que este sistema reemplace los equipos Riber 49 de Francia y Veeco GEN200 de EE. UU. La finalización de este proyecto está planificada para octubre de 2030.

Ambos proyectos exigen estrictamente el uso de componentes fabricados en Rusia. Nodos críticos como cámaras de vacío, bombas, fuentes moleculares, controladores y software deben ser de producción nacional. El uso de piezas extranjeras solo se permite en casos excepcionales y con la aprobación del ministerio.