Россия выделила 2 млрд рублей на проекты по импортозамещению оборудования для производства чипов

Минпромторг России запустил два крупных проекта по импортозамещению эпитаксиального оборудования. Данная технология предназначена для наращивания слоев на основе кремния, кремний-германия, а также соединений индия, алюминия и галлия. По сообщению издания КНевс, новые разработки должны заменить оборудование американской Вико, французской Рибер и нидерландской АСМ, поставки которых в Россию заблокированы. Об этом сообщает Иксбт.ком .

На проект «Эпитаксия-СиГе» выделено 463,7 млн рублей. В его рамках планируется создание установки для газофазной эпитаксии слоев кремний-германия на кремниевых пластинах диаметром 200 мм. Эта система станет аналогом установки АСМ Эпсилон 2000 из Нидерландов. Согласно техническому заданию, исполнитель должен разработать реактор, робот-загрузчик и модуль очистки поверхности пластин. Работы должны быть завершены к июню 2029 года.

На второй проект под названием «Цитадель» направлено 1,5 млрд рублей. Этот проект предусматривает разработку установки молекулярно-лучевой эпитаксии для получения гетероструктур на основе соединений индия, алюминия, галлия и арсенида. Ожидается, что данная система заменит оборудование французской Рибер 49 и американской Вико ГЭН200. Завершение этого проекта запланировано на октябрь 2030 года.

В обоих проектах установлено жесткое требование по использованию комплектующих российского производства. Такие важные узлы, как вакуумные камеры, насосы, молекулярные источники, контроллеры и программное обеспечение, должны быть отечественного производства. Использование иностранных деталей допускается только в исключительных случаях и по согласованию с министерством.