По данным международных источников, Китай сделал важный шаг в производстве передовых чипов, необходимых для искусственного интеллекта и современных электронных устройств. В секретной лаборатории в Шэньчжэне был создан опытный образец оборудования на основе технологии экстремальной ультрафиолетовой литографии. Эта технология до сих пор контролировалась в основном западными странами.
По данным источников, созданное оборудование находится на стадии испытаний и пока не производит полностью рабочие чипы. Тем не менее, оно способно генерировать необходимый ультрафиолетовый свет. Китайское правительство планирует получить первые чипы к 2028 году, однако эксперты считают, что реальный срок может быть 2030 год.
Проект реализуется в рамках многолетней стратегической программы правительства Китая. В нём участвуют государственные научные центры и крупные технологические компании. Основная цель — производить передовые чипы полностью на местных мощностях, без зависимости от зарубежных стран.
Эксперты оценивают инициативу как важный поворотный момент в стремлении Китая к технологической независимости. Этот процесс может оказать значительное влияние на глобальный рынок полупроводников и технологическую конкуренцию.
Читайте «Zamin» в Telegram!
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикации.
