Das russische Ministerium für Industrie und Handel hat eine Ausschreibung für die Entwicklung eines Softwarekomplexes angekündigt, der zum Kernelement eines nationalen computergestützten Designsystems (CAD) für die Vorbereitung und Herstellung von Fotomasken werden soll. Es handelt sich um Software für die Arbeit mit Topologien von 90 nm und höher.
Dies berichtet Ixbt.com.
Das Ministerium hat 943 Millionen Rubel für die Entwicklung dieses Projekts bereitgestellt. Die Ausschreibung wurde am 28.
April 2026 veröffentlicht, und der Abschluss der Arbeiten ist bis zum 1. November 2028 geplant.
Die zu erstellende Lösung soll mehrere Kernmodule umfassen, darunter das Laden von Daten, die visuelle Kontrolle der Topologie, die Erstellung von Skizzen sowie die Montage von Fotomasken.
Dieses Projekt ist die logische Fortsetzung des Importsubstitutionskurses im Bereich des Mikrochip-Designs. Bis 2022 nutzten russische Kunden aktiv Lösungen von Cadence und Synopsys, doch nach der Verhängung von Sanktionen wurden deren Lieferungen nach Russland eingestellt.
Vor diesem Hintergrund verabschiedete das Ministerium für Industrie und Handel im Jahr 2024 eine „Roadmap“ für die Entwicklung nationaler CAD-Systeme bis 2030.
Dem Plan zufolge sollen bis 2030 in Russland etwa 100 verschiedene CAD-Plattformen entstehen, und der Gesamtmarkt für diese Software soll erheblich wachsen. Zudem sieht die Roadmap vor, dass bis 2030 mit der Entwicklung von CAD-Systemen für noch feinere technologische Prozesse — 28 nm — begonnen werden könnte.
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