Le ministère russe de l'Industrie et du Commerce a annoncé un concours pour le développement d'un complexe logiciel qui deviendra le maillon central d'un système de conception assistée par ordinateur (CAO) local pour la préparation et la fabrication de photomasques.
Il s'agit d'un logiciel destiné à travailler avec des topologies de 90 nm et plus. C'est ce que rapporte Ixbt.com.
Le ministère a alloué 943 millions de roubles pour le développement de ce projet. L'appel d'offres a été annoncé le 28 avril 2026, et l'achèvement des travaux est prévu pour le 1er novembre 2028.
La solution en cours de création doit inclure plusieurs modules clés, tels que le chargement des données, le contrôle visuel de la topologie, la formation d'esquisses et l'assemblage de photomasques.
Ce projet est la suite logique de la politique de substitution des importations dans le domaine de la conception de micro-puces. Jusqu'en 2022, les clients russes utilisaient activement les solutions de Cadence et Synopsys, mais après l'imposition des sanctions, leurs livraisons vers la Russie ont été interrompues.
Dans ce contexte, le ministère de l'Industrie et du Commerce avait approuvé en 2024 une « feuille de route » pour le développement de la CAO locale jusqu'en 2030.
Selon le plan, environ 100 plateformes de CAO différentes devraient apparaître en Russie d'ici 2030, et le marché global de ces logiciels devrait croître de manière significative.
La feuille de route stipule également que d'ici 2030, le développement d'une CAO pour un processus technologique encore plus fin — 28 nm — pourrait débuter.
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