Rusya Sanayi ve Ticaret Bakanlığı, fotomaskelerin hazırlanması ve üretimi için yerli bilgisayar destekli tasarım (SAPR) sisteminin temel halkası olacak bir yazılım kompleksinin geliştirilmesi amacıyla ihale ilan etti. Söz konusu yazılımın 90 nm ve üzeri topolojilerle çalışması öngörülüyor.
Ixbt.com bu konuda haber vermektedir.
Bakanlık, bu projenin geliştirilmesi için 943 milyon ruble tahsis etti. İhale 28 Nisan 2026 tarihinde ilan edilmiş olup, çalışmaların 1 Kasım 2028 tarihine kadar tamamlanması planlanmaktadır.
Oluşturulacak çözümün; veri yükleme, topolojinin görsel kontrolü, taslakların oluşturulması ve fotomaskelerin montajı gibi birkaç temel modülü içermesi gerekiyor.
Bu proje, mikroçip tasarımı alanındaki ithal ikamesi politikasının mantıklı bir devamı niteliğindedir. 2022 yılına kadar Rus müşteriler Cadence ve Synopsys çözümlerini aktif olarak kullanıyordu, ancak yaptırımların uygulanmasının ardından bu ürünlerin Rusya'ya tedariki durdurulmuştu.
Bu bağlamda Sanayi ve Ticaret Bakanlığı, 2024 yılında yerli SAPR'ın 2030 yılına kadar geliştirilmesine yönelik bir "yol haritasını" onaylamıştı.
Plana göre, 2030 yılına kadar Rusya'da yaklaşık 100 farklı SAPR platformunun ortaya çıkması ve bu yazılımın toplam pazarının önemli ölçüde büyümesi bekleniyor. Ayrıca yol haritasında, 2030 yılına kadar daha ince bir teknolojik süreç olan 28 nm için SAPR geliştirilmesine başlanabileceği belirtiliyor.
“Zamin”i Telegram'da okuyun!
