Конец монополии ASML? Китай начал производство чипов без литографии

Китайский стартап Принано объявил о важном достижении в области производства фотонных микросхем. В сотрудничестве с Шенжен Литра Течнологй компания наладила выпуск оптических чипов на 8-дюймовых кремниевых пластинах без использования традиционного литографического оборудования, которое сегодня является основой полупроводниковой промышленности. Об этом сообщает Иксбт.ком сообщает .

В рамках проекта полностью отказались от технологии ДУВ-литографии (глубокий ультрафиолет). Это крайне важно, поскольку нидерландская компания ASML, производящая такие системы, ограничила поставки оборудования в Китай из-за санкций. Вместо этого Принано применила собственную технологию вакуумной наноимпринтной литографии.

Если в традиционном процессе схемы проецируются на кремниевую пластину с помощью сложной оптики и источников света, то в новом методе наноструктуры наносятся непосредственно на поверхность пластины с помощью специального шаблона, подобно печатному штампу. По утверждению компании, такой подход снижает производственные затраты примерно в десять раз по сравнению с ДУВ-процессами.

Следует отметить, что данная технология пока не предназначена для процессоров смартфонов или ускорителей искусственного интеллекта, таких как NVIDIA. Принано сосредоточена на фотонных чипах — специализированных микросхемах, работающих со светом вместо электрических сигналов. Такие компоненты широко применяются в волоконно-оптической связи, центрах обработки данных и лидарных системах.

Использование 8-дюймовых пластин означает, что проект перешел от лабораторных экспериментов к промышленному уровню. Однако говорить о полном коммерческом успехе пока рано, так как Принано еще не раскрыла данные о выходе годных изделий и конкретных заказчиках.