Russland stellt 2 Milliarden Rubel für die Chip-Produktion bereit

Das russische Ministerium für Industrie und Handel hat fast 2 Milliarden Rubel für die Entwicklung von Elektronenstrahl- und Lift-off-Lithografie-Materialien bereitgestellt, die bei der Herstellung von Mikroelektronik und Mikrowellenkomponenten verwendet werden. Der Gesamtwert der beiden im Rahmen des Projekts durchgeführten Ausschreibungen ist ein wichtiger Teil des Importsubstitutionsprogramms in diesem Sektor. Dies berichtet Ixbt.com .

Im Rahmen der ersten Ausschreibung fließen 1,017 Milliarden Rubel in die Entwicklung von Elektronenstrahl-Lithografie-Materialien, während 889,5 Millionen Rubel aus der zweiten Ausschreibung für die Herstellung von Materialien für die Lift-off-Lithografie aufgewendet werden. Alle Arbeiten sollen bis November 2029 abgeschlossen sein.

Im Rahmen des Projekts „SVCH Rezist-1“ werden 12 Arten von Elektronenstrahl-Resists entwickelt, die als Analoga zu Produkten der Unternehmen Allresist und Microresist (Deutschland), ZEON (Japan) sowie MicroChem (USA) dienen sollen. Das Projekt „SVCH Rezist-2“ sieht die Entwicklung von sieben Materialtypen vor, die die amerikanischen Resists der Serien LOR und PMGI ersetzen sollen.

Den Dokumenten zufolge verfügt Russland derzeit über keine eigene Produktionsbasis für solche Materialien, und der industrielle Bedarf wurde bisher vollständig durch ausländische Lieferanten gedeckt. Die Elektronenstrahl-Lithografie wird zur Erstellung hochpräziser Strukturen bis in den Nanometerbereich eingesetzt, während die Lift-off-Lithografie zur Formung von Metallstrukturen dient.

Diese neuen Ausschreibungen sind die Fortsetzung eines umfassenden Programms zur Lokalisierung der Produktion von chemischen Materialien, Spezialgasen und Fotolacken für die Mikroelektronik. Dieser Schritt dient dazu, die Abhängigkeit von ausländischen Technologien bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und Halbleitern zu verringern.