La Russie alloue 2 milliards de roubles pour la production de puces

Le ministère russe de l'Industrie et du Commerce a alloué près de 2 milliards de roubles pour le développement de matériaux de lithographie par faisceau d'électrons et par lift-off, utilisés dans la production de microélectronique et de composants hyperfréquences. La valeur totale des deux appels d'offres menés dans le cadre du projet constitue une partie essentielle du programme de substitution aux importations dans ce secteur. C'est ce que rapporte Ixbt.com .

Dans le cadre du premier appel d'offres, 1,017 milliard de roubles seront consacrés à la création de matériaux de lithographie par faisceau d'électrons, tandis que 889,5 millions de roubles issus du second appel d'offres seront utilisés pour préparer des matériaux destinés à la lithographie par lift-off. Tous les travaux doivent être achevés d'ici novembre 2029.

Dans le cadre du projet « SVCH Rezist-1 », 12 types de résines pour faisceau d'électrons seront créés pour servir d'analogues aux produits des sociétés Allresist et Microresist (Allemagne), ZEON (Japon) et MicroChem (États-Unis). Le projet « SVCH Rezist-2 » prévoit le développement de sept types de matériaux remplaçant les résines américaines des séries LOR et PMGI.

Selon les documents, la Russie ne dispose actuellement pas de base de production propre pour ces matériaux, et les besoins industriels étaient auparavant entièrement couverts par des fournisseurs étrangers. La lithographie par faisceau d'électrons est utilisée pour créer des structures de haute précision allant jusqu'à quelques nanomètres, tandis que la lithographie par lift-off est utilisée pour former des structures métalliques.

Ces nouveaux appels d'offres s'inscrivent dans la continuité d'un programme à grande échelle visant à localiser la production de matériaux chimiques, de gaz spéciaux et de photorésines pour la microélectronique. Cette étape sert à réduire la dépendance aux technologies étrangères dans la production de circuits intégrés et de semi-conducteurs.