Министерство промышленности и торговли России объявило конкурс на разработку программного комплекса, который станет основным звеном отечественной системы автоматизированного проектирования (САПР) для подготовки и производства фотошаблонов. Речь идет о программном обеспечении для работы с топологиями 90 нм и выше. Об этом сообщает Ixbt.com.
Министерство выделило на разработку данного проекта 943 млн рублей. Тендер был объявлен 28 апреля 2026 года, а завершение работ запланировано до 1 ноября 2028 года.
Создаваемое решение должно включать несколько основных модулей, таких как загрузка данных, визуальный контроль топологии, формирование эскизов и сборка фотошаблонов.
Данный проект стал логическим продолжением курса на импортозамещение в сфере проектирования микросхем. До 2022 года российские заказчики активно использовали решения Cadence и Synopsys, однако после введения санкций их поставки в Россию были прекращены.
На этом фоне Минпромторг в 2024 году утвердил «дорожную карту» по развитию отечественных САПР до 2030 года.
Согласно плану, к 2030 году в России должно появиться около 100 различных платформ САПР, а общий рынок этого программного обеспечения должен значительно вырасти. Также в дорожной карте отмечено, что к 2030 году может начаться разработка САПР для еще более тонкого технологического процесса — 28 нм.
Читайте «Zamin» в Telegram!
