Собственный литограф для 130-нм чипов появится в России в 2027 году
В России в 2027 году будет создан первый отечественный литограф для производства чипов по техпроцессу 130 нм, сообщил первый заместитель председателя Правительства РФ Денис Мантуров. Это решение обусловлено невозможностью использования зарубежного оборудования и необходимостью развития собственных технологий в микроэлектронном машиностроении для обеспечения стратегической независимости. В прошлом году в стране был выпущен литограф на базе технологии 350 нм, а в следующем году планируется снизить этот показатель до 130 нм. Также разрабатывается специальный микроскоп для замены оборудования японского бренда Хитачи, выделено 2 млрд рублей на замену трех западных установок для производства чипов.
Первый заместитель председателя Правительства РФ Денис Мантуров сообщил, что в следующем году в стране будет создан первый отечественный литограф, способный производить чипы по техпроцессу 130 нм. Об этом он рассказал в интервью изданию «Коммерсантъ». Об этом сообщает Иксбт.ком .
По словам Мантурова, учитывая, что в ближайшем будущем Россия не сможет использовать зарубежные литографы и оборудование для обработки кремниевых пластин, страна вынуждена сосредоточиться на собственных технологиях в области микроэлектронного машиностроения. Это рассматривается как единственный путь обеспечения стратегической независимости.
Отмечается, что в прошлом году в России был выпущен литограф на базе технологии 350 нм. План на следующий год — снизить этот показатель до 130 нм. «Это будет наше собственное оборудование, не зависящее ни от кого», — добавил Денис Мантуров.
Кроме того, появились сообщения о том, что Россия разрабатывает специальный микроскоп для производства микросхем, который заменит оборудование японского бренда Хитачи. Также выделено 2 млрд рублей на замену трех западных установок, используемых при производстве чипов.
Комментарии 0
…