China inicia la producción en serie de sus litografías DUV de inmersión

China ha dado un paso importante hacia su independencia tecnológica en el mercado de semiconductores al poner en marcha la producción en serie de litografías DUV de inmersión de fabricación propia. Según informa el medio The Information, citando sus propias fuentes, los primeros ejemplares de este equipo de alta tecnología se entregarán a los principales fabricantes de chips del país este mismo año. Así lo informa Ixbt.com informa .

En el marco de este proyecto de importancia estratégica, se han establecido planes claros para el fabricante de cara a los próximos años. En concreto, está previsto fabricar unas cinco máquinas de este tipo durante el año 2026, mientras que para 2027 el objetivo es elevar esta cifra a 20 unidades anuales. Aunque el nombre de la empresa fabricante no se ha revelado oficialmente, las fuentes señalan que detrás de esta iniciativa se encuentran varias grandes empresas chinas, incluida la startup estatal Shanghai Yuliangsheng Technology.

Proceso de pruebas y aspectos específicos de la producción

Los trabajos para probar las capacidades de la nueva tecnología ya han comenzado. Se ha informado que un prototipo de litografía DUV de inmersión se está probando con éxito en las instalaciones de producción de SMIC desde septiembre de 2025. Aunque los componentes principales del equipo se fabrican en la propia China, algunas piezas de repuesto extremadamente críticas se adquieren a empresas japonesas. Precisamente, los problemas en el suministro de estos componentes siguen siendo el principal factor que limita el ritmo de la producción en serie.

La litografía DUV de inmersión está considerada como una de las tecnologías más complejas en la creación de microchips modernos. Con la ayuda de tales dispositivos, es posible fabricar chips basados en un proceso tecnológico de aproximadamente 28 nm en un solo ciclo de exposición. Si se aplica la tecnología de exposición múltiple (multiple patterning), los equipos también son capaces de producir microchips avanzados del orden de los 7 nm.

Presión de EE. UU. y principales empresas chinas

El inicio de la producción de equipos litográficos propios por parte de China se produce en un contexto de crecientes sanciones y presiones por parte de Estados Unidos. Actualmente, en el Congreso de EE. UU. se debate el proyecto de ley MATCH Act. Si se aprueba este documento, se podría prohibir a la empresa neerlandesa ASML no solo suministrar nuevos sistemas DUV de inmersión a empresas chinas, sino también proporcionar mantenimiento técnico a los equipos ya instalados.

En la actualidad, entre las empresas potencialmente en riesgo se encuentran SMIC, Hua Hong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies (CXMT). Precisamente estos grandes actores industriales figuran en la lista de los primeros en recibir las nuevas litografías locales. Se espera que la introducción de la nueva tecnología local permita a China mitigar significativamente el impacto de las restricciones extranjeras.