Xalqaro axborot manbalariga ko‘ra, Xitoy sun’iy intellekt va zamonaviy elektron qurilmalar uchun zarur bo‘lgan ilg‘or chiplarni ishlab chiqarish yo‘lida muhim qadam tashladi. Shenzhen shahridagi maxfiy laboratoriyada ekstremal ultrabinafsha litografiya texnologiyasiga asoslangan tajriba uskunasi ishlab chiqildi. Mazkur texnologiya hozirgacha asosan G‘arb davlatlari nazoratida bo‘lgan.
Ma’lumotlarga ko‘ra, yaratilgan uskuna hozircha sinov bosqichida bo‘lib, unda hali to‘liq ishlaydigan chiplar ishlab chiqarilmagan. Shunga qaramay, qurilma zarur bo‘lgan ultrabinafsha nurni hosil qila olmoqda. Xitoy hukumati ushbu texnologiya asosida ilk chiplarni 2028-yilga qadar olishni maqsad qilgan, mutaxassislar esa real muddat 2030-yil bo‘lishi mumkinligini ta’kidlamoqda.
Loyiha Xitoy hukumatining bir necha yillik strategik dasturi doirasida amalga oshirilmoqda. Unda davlat ilmiy markazlari va yirik texnologik kompaniyalar ishtirok etmoqda. Asosiy maqsad — ilg‘or chiplarni chet davlatlarga bog‘liq bo‘lmagan holda, to‘liq mahalliy imkoniyatlar bilan ishlab chiqarishga erishishdir.
Mutaxassislar ushbu tashabbusni Xitoyning texnologik mustaqillikka intilishidagi muhim burilish nuqtasi sifatida baholamoqda. Bu jarayon kelgusida global yarimo‘tkazgichlar bozoriga va texnologik raqobatga sezilarli ta’sir ko‘rsatishi mumkin.
“Zamin”ni Telegramʻda oʻqing!
Mehmon guruhidagi foydalanuvchilar ushbu nashrga izoh qoldira olmaydi.
