Intel mikrosxemalar ishlab chiqarishda inqilobiy High-NA EUV texnologiyasini ishga tushirdi

Yarimoʻtkazgichlar sanoatining yetakchi vakili Intel korporatsiyasi tijoriy protsessorlarni ommaviy ishlab chiqarishda ilk bor oʻta yuqori sonli aperturali ekstremal ultrabinafsha litografiyasi (High-NA EUV) texnologiyasidan foydalanishni boshladi. Ushbu qadam nafaqat kompaniya tarixi, balki butun global texnologiya bozori uchun yangi davrni boshlab beradi. Hozirda mazkur texnologiya Intel Core Ultra Series 3 turkumiga kiruvchi Panther Lake protsessorlarining ayrim qatlamlarini tayyorlashda qoʻllanilmoqda. Bu haqda Ixbt.com xabar beradi.

Shu vaqtga qadar High-NA EUV tizimlari faqat laboratoriya tadqiqotlari va sinov namunalarini yaratishda ishlatib kelingan edi. Reuters nashri va ixbt.com maʼlumotlariga koʻra, yangi texnologiya asosida Niderlandiyaning ASML kompaniyasi tomonidan ishlab chiqarilgan EXE seriyali litografiya qurilmalari yotadi. Ushbu qurilmalarning sonli aperturasi 0,55 ni tashkil etadi, bu esa amaldagi 0,33 koʻrsatkichli NXE tizimlaridan sezilarli darajada yuqoridir.

Texnologik ustunlik va ishlab chiqarish murakkabligi

Yangi avlod optik tizimi mikrosxemalarda yanada mayda elementlarni shakllantirish imkonini beradi. ASML tahlillariga koʻra, tasvirlash ruxsati 13 nanometrdan 8 nanometrgacha yaxshilangan. Bu marketing atamasi emas, balki bevosita optik tizimning fizik imkoniyatidir. Hozircha protsessorlar toʻliq High-NA orqali ishlab chiqarilmayapti, balki Panther Lake chiplarining eng murakkab qatlamlarigina ushbu usulda tayyorlanmoqda. Intel bir vaqtning oʻzida anʼanaviy NXE va yangi EXE tizimlaridan foydalanish malakasiga ega boʻlib, bu ishlab chiqarish jarayonini moslashuvchan qilishga xizmat qiladi.

Biroq, bunday texnologik sakrash juda katta xarajatlarni talab qiladi. Bitta High-NA EUV qurilmasining narxi taxminan 400 million dollarni tashkil etadi, bu esa oddiy EUV mashinalaridan ikki baravar qimmat demakdir. Moliyaviy yuklamadan tashqari, ishlab chiqaruvchilar yangi fotorezistlar, fotoshablonlar va oʻlchov usullarini noldan ishlab chiqishlariga toʻgʻri keldi. Bu butun ishlab chiqarish ekotizimini tubdan oʻzgartirishni talab etadi.

Strategik ahamiyat va kelajak istiqbollari

High-NA texnologiyasining asosiy afzalligi shundaki, murakkab tuzilmalarni kamroq bosqichda shakllantirish mumkin. Bu plastinalarni tayyorlash vaqtini qisqartiradi, materiallar sarfini kamaytiradi va qatlamlarni birlashtirishdagi xatoliklar ehtimolini pasaytiradi. Natijada, uzoq muddatli istiqbolda mahsulot tannarxi arzonlashishi va nuqsonli chiplar soni kamayishi kutilmoqda.

Intel uchun ushbu texnologiyani joriy etish strategik ahamiyatga ega. Kompaniya Panther Lake protsessorlari orqali orttirilgan tajribani oʻzining Intel Foundry kontrakt boʻlinmasini rivojlantirishda qoʻllamoqchi. Bu orqali Intel jahon bozorida TSMC va Samsung kabi gigantlar bilan raqobatda ustunlikka erishishni koʻzlamoqda. Oʻzbekistonlik isteʼmolchilar uchun ham bu yangilik muhim, chunki yangi texnologiya asosida yaratilgan protsessorlar yaqin yillarda noutbuk va kompyuterlarning unumdorligini yangi bosqichga olib chiqadi.